一种低折射率全介质平面透镜的制作方法与流程

发布时间:

2021-03-12

背景技术：

在几何光学框架下，传统光学成像透镜受到严格几何关系限制，需要依赖透镜表面形状和天然的光学材料来实现折反射成像，导致光学透镜设计自由度低、体积质量大，不利于光电子技术及应用的集成化、轻量化和微型化发展需求。随着纳米制备技术的发展，光学成像技术则再次迎来了新的飞跃。光学超构表面能够实现纳米尺度下的精准光场调控，包括波长、振幅、相位、偏振等等。与传统光学透镜相比，由纳米结构组成的平面透镜，结合了传统光学成像技术与现代光学超材料技术，具有调控自由度高、光学特性丰富、轻量化和集成化程度高等明显的优势。

虽然借由微纳技术，光学平面透镜能具有重量轻、厚度极薄等特点，但其所使用的材料大多为金属或高折射率介质材料，如金和硅，所适用波长集中在近红外波段，对可见光吸收相当大，可见光区域透过率低。

技术实现要素：

本发明为克服上述现有技术由微纳技术制得的光学平面透镜使用的材料大多为金属或高折射率介质材料，对可见光吸收相当大，可见光区域透过率低的技术问题，提供一种低折射率全介质平面透镜的制作方法。

为解决上述技术问题，本发明的技术方案如下：

一种低折射率全介质平面透镜的制作方法，包括以下步骤：

S1：在由折射率不小于2.5的低折射率介质柱状结构构成低折射率全介质材料中选择介质衬底材料、透镜结构材料；

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