湿法涂布用IM(INDEX MARGIN)层消影液,消除ITO刻蚀线条视觉差
发布时间:
2024-08-16
ITO是氧化铟锡,一种显示行业比较常见的透明导电材料,可以做的PET光学膜上,做成ITO透明导电膜,也可以做在玻璃上,做成ITO感应玻璃或者显示液晶玻璃上。
1、ITO结构
ITO可用于膜材和玻璃,常见结构如下:
ITO膜结构 ITO玻璃结构
ITO层是主要的功能层,镀层有很多种生产工艺,光电行业常使用磁控溅镀的工艺,镀膜一般是镀多层,一层是几千个埃,市场上ITO层厚度是从20到50纳米之间。镀层完后做蚀刻,这时候IM层(也叫UC层)就起到很好的消影效果。UC层是光学性能调节层,也可以叫消影层,或者也叫IM层,折射率匹配层,还可以做防牛顿环的镀层。由于ITO层和PET层或玻璃的折射率不一样,光线透过不同折射率的材料,相差越大,反射率越高,这个会导致后面ITO蚀刻后,线路的痕迹很明显,影响屏幕的外观,所以需要涂布一层折射率匹配层。
以下图为例,在ITO面与消影面的光线反射率接近,小于1%,就不会出现下图左边的不良。这个涂层的精密涂布要求比较高,现在能做的好的多是日本的企业,而很多ITO膜厂,干脆就购买IM膜。
2、IM层组成
膜系组成:IM(NB2O5/SiO2)+ITO根据ITO阻值不同,IM层厚度也需要做不同的调整。目前常用的消影ITO阻值为80~120Ω,ITO膜厚范围20-27nm,IM层膜厚控制:总膜厚75-78nm,NB2O5 4.8~6nm,SiO2 66~72nm。(说明:各层膜厚准确控制,是消影效果的保证,设计膜系厚度NB/6、SiO2/64,配合ITO/24是理想的膜厚)
IM层常用磁控溅射工艺,通过镀氧化铌、氧化硅来实现消影效果,虽然可以实现更好控制,但是效率不足,成本没办法降低,威亮基于现有平台技术,推出IM消影液,采用纳米氧化物调节折射率,可做到和ITO接近折射率2.0,再通过精密涂布工艺控制膜厚,实现辊涂或者卷对卷做消影膜或消影玻璃,不仅效率高,良率好,还可以进一步降低成本,达到降本增效效果。
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