威亮光学开发出科研热点材料，POSS多面体低聚倍半硅氧烷

发布时间:

2021-08-10

面体低聚倍半硅氧烷（POSS），又称立方体烷，化学式为：（RSiO3/2）n，是一种分子水平上的纳米级有机／无机杂化体，具有笼型结构。目前，POSS合成的方法主要包括直接水解缩合法、部分缩合一顶角带帽法、官能团衍生法、侧基转化法、硅氢化反应和笼型倍半硅氧烷的结构重排等。

采用不同的合成方法可以制备出具有特殊官能团的POSS，其化学性质也多种多样，并且由于其特殊的有机一无机结构，POSS可以和多种聚合物形成分子级别的POSS/聚合物杂化材料。威亮光学采用自由专利技术，巳制备出多种型号的POSS结构，终端用户可以根据POSS所带官能团和聚合物的结构特点，进行POSS/聚合物杂化，或者和威亮光学一起共同开发，扩展更多的POSS/聚合物的应用。常见POSS／聚合物杂化材料的制备方法包括共聚法、接枝法、化学交联法、共混法和原子转移自由基聚合法（ARTP）等。

威亮光学开发的POSS（Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane）材料可以改善涂层：◆耐刮性；◆提供附着力；◆高透光率；◆提供耐热性。

POSS结构作为一种新型应用材料，结构立体、可以进行聚合物杂化等特点，正被越来越多的应用工程师青睐，威亮光学欢迎同各方应用工程师一起探讨POSS的更多应用。